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半導(dǎo)體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱

半導(dǎo)體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱

簡要描述:

半導(dǎo)體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán)。經(jīng)耐高溫高效空氣過濾器過濾,使烘箱工作室內(nèi)處于無塵狀態(tài)。

半導(dǎo)體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱性能介紹

半導(dǎo)體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱

是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán)。經(jīng)耐高溫高效空氣過濾器過濾,使烘箱工作室內(nèi)處于無塵狀態(tài)。潔凈烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結(jié)構(gòu)。工作室內(nèi)溫度采用智能式數(shù)顯溫度控制儀進(jìn)行自動(dòng)控制P.I.D調(diào)節(jié),數(shù)顯時(shí)間控制,并設(shè)有斷路及超溫報(bào)警,操作方便,使用安全。
半導(dǎo)體光刻烤箱,晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱

可滿足電子電器、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達(dá)350℃-400℃并且可加裝氮?dú)膺M(jìn)出口。

、光刻涂膠用烘箱技術(shù)參數(shù):      

1.內(nèi)部尺寸:600*500*750(mm) (內(nèi)尺寸可選擇)

2.內(nèi)箱分層:三層

3. 溫度范圍:RT+10℃~300℃。

4.溫度波動(dòng):<±1℃。

5.溫度均勻:±2%(空載測試)。

  依測規(guī)范:測SENSOR置放點(diǎn),離內(nèi)箱壁內(nèi)尺寸1/10處。

6.溫控裝置:高精度P.I.D智能溫控儀表, LED數(shù)字顯示及設(shè)定、P.I.D自動(dòng)演算、時(shí)間定時(shí)。

溫控輸出:SSR輸出,品牌繼電器,固態(tài)繼電器。                    

測溫裝置:1支PT100 鉑 電阻溫度傳感裝置,測溫精確。

氣體控制裝置:高效過濾氣體中微粒。

7.內(nèi)室材料:采用無磁性鏡面不銹鋼;外箱采用 SS41# 中碳鋼板經(jīng)磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆,可防止微塵(PARTICLE) 。

8.保溫材質(zhì):硅酸鋁。

9.特質(zhì)復(fù)合式SUS304#不銹鋼電熱產(chǎn)生器。

保護(hù)裝置:超溫保護(hù)器,無熔絲開關(guān)。

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